本發明屬于碳微機電技術領域,為一種碳微電極陣列結構的制備方法 。 其步驟包括光刻步驟,得到陣列的碳微結構部分;沉積金屬步驟:在所得到的碳微結構表面沉積一層或多層金屬層;熱解步驟:在惰性氣體氛圍或惰性混合氣體氛圍環境下,在不同的溫度下進行多步熱解;通過上述步驟,即可生長得到表面集成碳納米結構的碳微電極陣列結構。本發明將厚膠光刻、金屬沉積和熱解相結合,得到的微納集成結構擁有較大的比表面積,本發明的方法運用于微機電系統中,具有工藝簡便,成本低廉、可控性高、可大批量生長、結構優良等特點,得到的微納集成結構具有良好的電學性能,故可作為電機,在微型電池、微型電化學傳感器等微機領域中會有較廣泛的應用。
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