采購品目:A03專用儀器
預計采購時間:2022-11
必要性:場發射電子探針兼顧高的圖像分辨率和精準的元素分析功能。 (1)高的二次電子圖像分辨率3nm(30kV),可用于金屬、陶瓷、涂層、納米材料和斷口形貌的顯微結構及尺寸觀察;背散射圖像可用于物相及析出相的觀察; (2)EPMA 采用波長色散型X 射線分光器(WDS),與能量色散型X 射線分光器(EDS)相比,具有高分辨率(WDS分辨率優于EDS一個數量級)的特點。因此,EPMA 與掃描型電子顯微鏡(SEM)配置EDS 檢測器比較,可以進行更高精度和更高靈敏度的元素分析。 場發射電子探針既像掃描電鏡一樣可用于高分辨率的形貌觀察,又彌補了電鏡能譜元素定量精度差、B/C/N/O超輕元素無法分析和低分辨率元素線面分析等元素分析的缺陷,同時兼具可觀察可高精度全元素定量分析和高分辨率的元素線面分析等強大功能,填補了校內電子探針類儀器的空白,在復合材料、金屬間化合物、金屬相變、材料腐蝕等方面具有廣泛應用。
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