采購品目:A02100499 其他分析儀器
預計采購時間:2022-11
原子層沉積設備用于各類粉體材料、平面樣品表面的薄膜沉積。采購需要滿足平 面樣品的批量制備(2cm*2cm 樣品片不少于 100 片/批次);通過轉動模塊加裝,可實現粉末樣品的批量制備( 1 克/批次);惰性環境樣品加裝,即 ALD 設備與手套箱銜接,可應用于各類水氧敏感樣品的 ALD 制造;反應器尺寸升級,平面樣品最大可處理尺寸擴展為 60mm;平面樣品薄膜沉積過程中可在反應器出 口加裝石英晶體微天平用于薄膜沉積過程監控等。薄膜沉積過程控制精度達到 0.01-0.5 納 米/周期,反應器內部平面基底表面薄膜厚度不均勻度不高于 2%,不同批次薄膜厚度不均勻度不高于 3%。設備整體采用模塊化設計,后期可根據用戶需求以較小代價對設備相關部件進行改裝,實現常規功能擴充及某些特殊功能拓展,例如:擴充前驅體注入模塊;在反應系統上加載膜厚儀、紅外、質譜等原位表征裝置;實現特異形狀工件外壁或內壁薄膜沉積等。
掃碼關注,查看更多科技成果