MS-246小型多靶磁控濺射鍍膜機
真空腔室：1Cr18Ni9Ti優質不銹鋼材質，氬弧焊接，上開蓋和前開門結構；
真空系統：機械泵+分子泵（進口和國產可選）；
極限真空：優于8?10-5Pa（設備空載抽真空24h）；
真空抽速：大氣～8?10-4Pa≤30min；
升降基片臺：尺寸直徑100mm，高度60～120mm可調，旋轉0～20r/min可調，可加熱至300℃（可選水冷功能），可選配偏壓清洗功能；
磁控靶：直徑2英寸2只（可升級成3只），兼容直流和射頻，可以濺射磁性材料的靶材；
濺射電源：直流脈沖濺射電源、全自動匹配的射頻濺射電源可任選；
質量流量計：10sccm、50sccm質量流量控制器各1套；
膜厚監控儀：可選配國產或進口單水冷探頭膜厚儀；
控制方式：PLC+觸摸屏控制系統，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實現一鍵抽停真空；
整機尺寸：L60cm?W60cm?H96cm機電一體化機架，預留1個CF35法蘭接口。
